Deutsch: Prinzip von winkelabhängigen XPS-Messung (AR-XPS).
Probe wird mit Röntgenstrahlen der Energie h*v beschossen. Dadurch wird ein kernnahes Elektron aus dem Atomverband herausgeschlagen.
Folge: Es kommt zur direkten Emission eines Photoelektrons.
Diese Elektronen werden, bezüglich über ihrer kinetischen Energie analysiert, die dann gegen die Intensität der emittierten Elektronen aufgetragen wird.
Die so gemessenen Spektren liefern Informationen über die Bindungsenergie und somit über die Art der zugrunde liegenden Atome und deren Konzentration.
Die Eindringtiefe der verwendeten Röntgenstrahlung ist um ein Vielfaches größer als die Informationstiefe (0,5-10 nm),
d. h., die maximale Auslösungstiefe von Elektronen die ohne Energieverlust am Detektor ankommen. Die Informationstiefe kann durch Änderung des Detektionswinkels etwas variiert werden, denn bei einem flacheren Winkel müssen die Elektronen eine längere Strecke im Material zurücklegen, wodurch die Wahrscheinlichkeit von Energieverlust durch Stoßprozesse erhöht wird.
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2007-09-28 13:56 Cepheiden 1448×549× (125134 bytes) {{Information |Beschreibung = Prinzip von winkelabhängigen XPS-Messung (AR-XPS). Die Eindringtiefe der verwendeten Röntgenstrahlung ist um ein Vielfaches größer als die Informationstiefe, d. h., die maximale Auslösungstiefe von Elektronen die ohne En
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