Portal:Mikroelektronik

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Portal.svg Willkommen im Portal Mikroelektronik
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Dieses Portal soll einen Einstieg zu den Themen über Entwurf, Fertigung und Anwendung von Halbleitermaterialien vor allem im Bereich mikroelektronischer und nanoelektronischer Schaltungen und Mikrosystemem geben. Das Portal ist auch Anlaufstelle für Artikelarbeiten im Bereich Mikro-, Halbleiter- und Optoelektronik sowie die entsprechender Herstellungsverfahren der Halbleitertechnik in der Wikipedia. Eine Seite zur Mitarbeit findet sich hier. Willst Du einzelne Teile des Portals bearbeiten, so kannst Du das über die Schalttafel tun.

Unter einem Halbleiter versteht man einen Festkörper, dessen elektrische Leitfähigkeit stark temperaturabhängig ist und der von daher je nach Temperatur sowohl als Leiter als auch als Nichtleiter betrachtet werden kann. Die Leitfähigkeit eines Halbleiters nimmt mit steigender Temperatur zu, womit diese auch als Heißleiter bezeichnet werden. Die Leitfähigkeit lässt sich ferner durch das Einbringen von Fremdatomen aus einer anderen Hauptgruppe, das sogenannte Dotieren, in weiten Grenzen steuern. Bedeutung für die Mikroelektronik erlangen Halbleiter aber insbesondere dadurch, dass ihre Leitfähigkeit auch durch Anlegen einer Steuerspannung oder eines Steuerstroms (wie z. B. beim Transistor) verändert werden kann.

Feather.svg Technologie und Geschichte
Theorie
HAtomOrbitals.png
Quantenmechanik – Bändermodell – Dotierung – p-n-Übergang – Raumladungszone – Heteroübergang – Dünnschichttechnik
Material
Silizium – Einkristall – Galliumarsenid – Galliumnitrid – Aluminiumgalliumarsenid – Siliziumdioxid – Siliziumnitrid – Germanium – Indium – III-V-Verbindungshalbleiter – II-VI-Verbindungshalbleiter – Low-k-Dielektrikum – High-k-Dielektrikum – PTCDA – MePTCDI – Chinacridon – Perinon – Indanthron – Flavanthron – Perylen – Pentacen
Halbleitertechnik
PICT0111.JPG
Reinraum – Czochralski-Verfahren – Zonenschmelzverfahren – Wafer – Die – Chipgehäuse – Spektroskopie – Rasterelektronenmikroskop
Ätzen – chemisch-mechanisches Polieren – chemische Gasphasenabscheidung (CVD) – Dickschicht-Hybridtechnik – Drahtbonden – Epitaxie – Fotolithografie – Galvanik – Ionenimplantation – physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) – Rotationsbeschichtung – Sputtern – Trockenätzen
Entwicklung
Chipentwurf – Digitaltechnik – Floorplanning – Schaltungs- und Systementwurf – VLSI – Synthese – Verilog – VHDL – Validierung
Geschichte und Personen
William B. Shockley
Albert Einstein – William B. Shockley – Jean Hoerni – Jack Kilby – Robert Widlar – Gordon Moore – Percy Williams Bridgman – Leo Esaki – Hiroo Inokuchi
Industrie
Top-Ten der Halbleiterhersteller: Broadcom – Hynix – Intel – Micron Technology – Qualcomm (früher Renesas Electronics) – Samsung Electronics – STMicroelectronics – Texas Instruments – Toshiba
Mooresches Gesetz
Sonstige
Antifuse-Technologie – Elektromigration – Foundry – gestrecktes Silizium – Leistungselektronik
Feather.svg Bauelemente
Grundlegende
Aufbau CMOS-Chip 2000er.svg
Diode – Tunneldiode – Transistor – Bipolartransistor – Insulated Gate Bipolar Transistor – Feldeffekttransistor – MOSFET – Leistungs-MOSFET – High Electron Mobility Transistor – Fotohalbleiter – CCD-Sensor – CMOS-Sensor – organischer Feldeffekttransistor – mehr
Halbleiterspeicher
Random Access Memory – dynamisches RAM – statisches RAM – Festwertspeicher (ROM) – PROM – EPROM – EEPROM – Flash-Speicher – EDO RAM – SDRAM – DDR-SDRAM – ferroelectric RAM – magnetoresistive RAM – non-volatile-RAM – Phase-change-RAM – pseudostatisches RAM
Prozessoren
Mikroprozessor – Mikrocontroller – Digitaler Signalprozessor
Sonstige
Chipkarte – Programmable Logic Device – Complex Programmable Logic Device – Field Programmable Gate Array – Programmable Array Logic – anwendungsspezifische integrierte Schaltung – applikationsspezifische Standardprodukte – Halbleiterdetektor
Feather.svg Verwandte Themen
Wikipedia-logo-v2.svg Einstieg
Nuvola filesystems services.svg Besondere Artikel

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Qsicon lesenswert.svg Lesenswerte Artikel: CCD-SensorGleichrichterImmersionslithografieLift-off-VerfahrenTransistorThermische Oxidation von Silizium

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