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Beschreibung

Beschreibung
Deutsch: Verlauf der verallgemeinerten Stapelfehlerenegie in FCC Kupfer
Datum 12.6.2009
Quelle Dissertation: Atomistische Simulationen von Nanoindentation
Urheber Gerolf Ziegenhain
Genehmigung
(Weiternutzung dieser Datei)
GPLv3

Lizenz

GNU head Es ist erlaubt, die Datei unter den Bedingungen der GNU-Lizenz für freie Dokumentation, Version 1.2 oder einer späteren Version, veröffentlicht von der Free Software Foundation, zu kopieren, zu verbreiten und/oder zu modifizieren; es gibt keine unveränderlichen Abschnitte, keinen vorderen und keinen hinteren Umschlagtext.

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  • 2009-06-12 13:51 2A4Fh56OSA 1600×1200× (59262 bytes) {{Information |Beschreibung = Verlauf der verallgemeinerten Stapelfehlerenegie in FCC Kupfer |Quelle = Dissertation: Atomistische Simulationen von Nanoindentation |Urheber = Gerolf Ziegenhain |Datum = 12.6.2009 |Genehmigung = |Andere Versionen = |Anmerk

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aktuell21:30, 17. Mai 2010Vorschaubild der Version vom 21:30, 17. Mai 20101.600 × 1.200 (58 KB)File Upload Bot (Magnus Manske) {{BotMoveToCommons|de.wikipedia|year={{subst:CURRENTYEAR}}|month={{subst:CURRENTMONTHNAME}}|day={{subst:CURRENTDAY}}}} {{Information |Description={{de|Verlauf der verallgemeinerten Stapelfehlerenegie in FCC Kupfer}} |Source=Transferred from [http://de.wi

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