Siemens-Verfahren

Resultat des Verfahrens: Polykristallines Solarsilicium

Das Siemens-Verfahren ermöglicht die Herstellung von polykristallinem Silicium. Es dient oft als Ausgangsbasis für die Produktion von Solarzellen. Der Name leitet sich von der Firma Siemens her, welche das Verfahren entwickelte.

Verfahren

Gasförmiger Chlorwasserstoff wird bei 300–350 °C in einem Reaktor zu Trichlorsilan umgesetzt.

$\mathrm {Si+3\ HCl\longrightarrow H_{2}+HSiCl_{3}}$

Mit Stäben wird elemtare Silicium bei 1100 °C aufgefangen. Der Chlorwasserstoff kann dem Kreislauf wieder zugeführt werden. Das entstehende Nebenprodukt Siliciumtetrachlorid kann entweder dem Kreislauf über Trichlorsilan wieder zugesetzt und verbrannt werden.

Ein Nachteil des Verfahrens ist der sehr hohe Stromverbrauch.

Literatur

• Erhard Sirtl, Konrad Reuschel: Über die Reduktion von Chlorsilanen mit Wasserstoff. In: Zeitschrift für anorganische und allgemeine Chemie. Band 332, Nr. 3-4, Oktober 1964, S. 113–123, doi:10.1002/zaac.19643320302 (PDF). 

Weblinks

• 

  Wikibooks: Siliciumverarbeitung: Reinigungsverfahren – Lern- und Lehrmaterialien
• MAXUM II Online-Überwachung der Herstellung von Polysilizium in der Photovoltaik-Industrie. (PDF) Siemens, 2009, abgerufen am 3. November 2015.