Trichlorfluorsilan

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Strukturformel
Strukturformel von Trichlorfluorsilan
Allgemeines
Name Trichlorfluorsilan
Andere Namen

Siliciumtrichloridfluorid

Summenformel SiCl3F
Kurzbeschreibung

farbloses Gas[1]

Externe Identifikatoren/Datenbanken
CAS-Nummer 14965-52-7
PubChem 139862
Wikidata Q1032320
Eigenschaften
Molare Masse 153,43 g·mol−1
Aggregatzustand

gasförmig[1]

Schmelzpunkt

−121 °C[1]

Siedepunkt

12 °C[1]

Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung
keine Einstufung verfügbar[2]
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen.

Trichlorfluorsilan ist eine anorganische chemische Verbindung des Siliciums aus der Gruppe der Siliciumtetrahalogenide.

Gewinnung und Darstellung[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Trichlorfluorsilan (wie auch andere Fluorchlorsilane) kann durch Reaktion von Natriumhexafluorosilicat und Aluminiumchlorid oder durch Halogenaustausch in Siliciumtetrachlorid mit Antimon(III)-fluorid und Antimon(V)-chlorid als Katalysator gewonnen werden.[1]

Eigenschaften[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Trichlorfluorsilan ist ein farbloses, sehr hydrolyseempfindliches Gas.[1]

Verwendung[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Trichlorfluorsilan kann in der Halbleiterindustrie zur Abscheidung von Siliciumschichten verwendet werden.[3]

Einzelnachweise[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

  1. a b c d e f Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band I, Ferdinand Enke, Stuttgart 1975, ISBN 3-432-02328-6, S. 679.
  2. Dieser Stoff wurde in Bezug auf seine Gefährlichkeit entweder noch nicht eingestuft oder eine verlässliche und zitierfähige Quelle hierzu wurde noch nicht gefunden.
  3. Patentanmeldung EP1480909A2: Herstellung von Halogensilanen mit verschiedenen Halogensubstituenten. Angemeldet am 27. Februar 2003, veröffentlicht am 1. Dezember 2004, Anmelder: Honeywell International Inc, Erfinder: Edward Asirvatham et al.