Foturan

aus Wikipedia, der freien Enzyklopädie
Zur Navigation springen Zur Suche springen

Foturan (Schreibweise des Herstellers: FOTURAN®) ist ein fotosensitives Glas, das 1984 von der Schott AG aus Mainz entwickelt wurde. Es handelt sich dabei um eine technische Glaskeramik, deren Strukturierung – im Gegensatz zu herkömmlichen Verfahren – ohne Einsatz von Fotolack möglich ist. Stattdessen wird das Material mit kurzwelliger Strahlung, wie beispielsweise ultraviolettem Licht, belichtet und anschließend geätzt.[1]

Im Februar 2016 gab Schott den Marktstart von Foturan II im Rahmen der Photonics West bekannt, welches sich durch höhere Homogenität der Fotosensitivität auszeichnet, wodurch feinere Mikrostrukturen möglich werden.[2]

Zusammensetzung und Eigenschaften[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Zusammensetzung
Bestandteil SiO2 LiO2 Al2O3 K2O Na2O ZnO B2O3 Sb2O3 Ag2O CeO2
Anteil [%] 75-85 7-11 3-6 3-6 1-2 0-2 0-1 0,2-1 0,1-0,3 0,01-0,2
Mechanische Eigenschaften
Knoop-Härte in N/mm² (0.1/20) 480
Vickers-Härte in N/mm² (0.2/25) 520
Dichte in g/cm³ 2,37
Thermische Eigenschaften
Ausdehnungskoeffizient a20-300 in 10−6·K−1 8,49
Temperaturleitfähigkeit bei 90 °C in W/(m K) 1,28
Transformationstemperatur Tg in °C 455
Elektrische Eigenschaften
Dielektrizitätskonstante
Frequenz [GHz] 1.1 1.9 5
Glas-Zustand (getempert bei 40 °C/h) 6.4 6.4 6.4
Keramik-Zustand (keramisiert bei 560 °C) 5.8 5.9 5.8
Keramik-Zustand (keramisiert bei 810 °C) 5.4 5.5 5.4
Verlustfaktor tanδ(·10−4)
Frequenz [GHz] 1.1 1.9 5
Glas-Zustand (getempert bei 40 °C/h) 84 90 109
Keramik-Zustand (keramisiert bei 560 °C) 58 65 79
Keramik-Zustand (keramisiert bei 810 °C) 39 44 55
Chemische Eigenschaften
Hydrolysebeständigkeit nach DIN ISO 719 in µgNa2O/g (class) 578 (HGB 4)
Säureresistenz nach DIN 12116 in mg/dm² (class) 0,48 (S1)
Laugenresistenz nach DIN ISO 695 in mg/dm² (class) 100 (A2)
Optische Eigenschaften
Brechungsindex
Wellenlänge [nm], λ= 300 486.1 (nF) 546.1 (ne) 567.6 (nd) 656.3 (nC)
Glas-Zustand (getempert bei 40 °C/h) 1.549 1.518 1.515 1.512 1.510
Keramik-Zustand (keramisiert bei 560 °C) n/a 1.519 1.515 1.513 1.511
Keramik-Zustand (keramisiert bei 810 °C) n/a 1.532 1.528 1.526 1.523
Spektraler Transmissionsgrad
τ(λ) t250 t270 t280 t295 t350
in [%, 1 mm] 0.1 3 11 29 89

Bei Foturan handelt es sich um ein Glassystem aus Lithium und Aluminosilikaten, das mit geringen Mengen von Silber- und Cerium-Oxiden dotiert ist.[3]

Verarbeitung[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Foturan – Verarbeitungsschritte (schematische Darstellung)

Die Strukturierung von Foturan besteht aus UV-Belichtung, Tempern und Ätzen. Die UV-Belichtung durch eine Fotomaske regt die Elektronen in den beleuchteten Bereichen an, wodurch das kristalline Keimwachstum bei der anschließenden Wärmebehandlung ausgelöst wird. Die kristallisierten Bereiche reagieren sehr viel schneller mit Fluorwasserstoffsäure, als das sie umgebende (zuvor nicht bestrahlte) glasartige Material, wodurch sich sehr feine Mikrostrukturen ergeben, die sich durch eine enge Toleranz und ein hohes Aspektverhältnis auszeichnen.[4]

1) Belichtung mit UV-Licht[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Wird Foturan UV-Licht mit einer Wellenlänge von etwa 320 nm ausgesetzt (beispielsweise via Fotomaske, Kontaktbelichtung, Proximitybelichtung, um bestimmte Muster zu belichten), löst dies eine chemische Reaktion in den bestrahlten Bereichen aus: Das enthaltene Ce3+ wandelt sich in Ce4+ um und setzt dabei ein Elektron frei.[5]

2) Tempern[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Während des Tempervorgangs (etwa 500 °C) setzt eine Keimbildung in den zuvor belichteten Bereichen ein, wodurch das Silber-Ion Ag+ das zuvor freigesetzte Elektron des Ce3+ aufnimmt und in Ag0 umwandelt. Dieser Vorgang ist ähnlich wie bei einem Foto, oder einem fotolithographischen Silizium-Strukturierungsprozess zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen und Mikrosystemen.

Durch die Bildung von Silberkeimen lagern sich weitere Silberatome an und bilden nach und nach Silbercluster in der Größenordnung einiger Nanometer.

Während des anschließenden Kristallisationsprozesses (Tempern bei 560–600 °C) bilden sich durch die Silber-Cluster Lithiummetasilicate (Li2SiO3 Glaskeramik) in den belichteten Bereichen. Es entsteht somit eine kristalline Struktur. Die zuvor nicht bestrahlten Stellen behalten ihre amorphe Glasstruktur bei.[5]

3) Ätzen[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Im Anschluss an den Temperprozess können die kristallisierten Bereiche mittels Fluorwasserstoffsäure weggeätzt werden, was bei einer kristallinen Struktur 20 mal schneller geschieht, als bei einer amorphen Struktur (den restlichen unbelichteten Bereichen des Foturan). Somit können Strukturen erzeugt werden, die ein Aspektverhältnis von etwa 10:1 aufweisen.[5]

4) Belichtung mit UV-Licht und Keramisieren[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Nach dem Ätzvorgang ist eine Umwandlung des gesamten Substrates in eine Keramik möglich, indem das Material ein zweites Mal mit UV-Licht bestrahlt und wärmebehandelt wird (bei 800–900 °C). In diesem Zustand ist die kristalline Phase Li2Si2O5.[5]

Produkteigenschaften[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

  • Kleine Strukturgrößen: es sind Strukturen von ca. 25 µm möglich
  • Hohes Aspektverhältnis: ein Ätzverhältnis von > 20:1 ermöglichen ein Aspektverhältnis von >10:1 und eine Winkelabweichung der Strukturwand von 1–2 °
  • Hohe optische Transmission im sichtbaren und nicht sichtbaren Spektrum: Transmission über 90 % (bei einer Substratdicke von 1 mm) zwischen 350 und 2700 nm
  • Hohe Temperaturbeständigkeit: Tg > 450 °C
  • Keine Porenbildung: einsetzbar für biotech/ microfluidic Anwendungen
  • Geringe Selbstfluoreszenz
  • hydrolytische Resistenz (nach DIN ISO 719): HGB 4
  • Säurebeständigkeit (nach DIN 12116): S 1
  • Laugenfestigkeit (nach DIN ISO 695): A 2

Wissenschaftliche Veröffentlichungen[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Im Bereich der Materialwissenschaft ist Foturan weitläufig bekannt, wie sich auch an über 1000 Ergebnissen in den Wissenschaftsdatenbank Google Scholar (abgerufen am 30. Oktober 2015) zu unterschiedlichsten Themen ablesen lässt.[6]

Häufig behandelte Themen dieser Publikationen sind

Anwendungsmöglichkeiten[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Foturan wird hauptsächlich eingesetzt, um Mikrosturkturanwendungen zu realisieren, bei denen kleine und komplexe Strukturen innerhalb eines festen und robusten Materials erforderlich sind. Es lassen sich fünf Hauptbereiche differenzieren, für die Foturan einsetzbar ist:

Mittels thermischem Diffusionsbonding ist es zudem möglich, mehrere strukturierte Foturan-Glasschichten miteinander zu verbinden, um komplexe dreidimensionale Mikroreaktoren herzustellen.

Weblinks[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Einzelnachweise[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

  1. SCHOTT Marken Übersicht. SCHOTT AG, abgerufen am 7. Februar 2016.
  2. SCHOTT Pressemitteilung 16.02.2016. SCHOTT AG, 16. Februar 2016, abgerufen am 16. Februar 2016.
  3. Foturan Schott Website. Abgerufen am 12. Februar 2016.
  4. Wolfram Höland: Glass Ceramic Technology, 1. Auflage, Wiley, 1999, ISBN 0470487879, S. 236.
  5. a b c d F.E. Livingston, P.M. Adams, Henry Helvajian: Influence of cerium on the pulsed UV nanosecond laser processing of photostructurable glass ceramic materials. In: Applied Surface Science. Nr. 247, 2005, S. 527.
  6. Foturan on Google Scholar. Abgerufen am 30. Oktober 2015.
  7. I. Rajta: Proton beam micromachining on PMMA, Foturan and CR-39 materials. In: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 210, September 2003, S. 260–265.
  8. Zhongke Wang: Fabrication of integrated microchip for optical sensing by femtosecond laser direct writing of Foturan glass. In: Applied Physics A. 93, Nr. 1, October 2008, S. 225–229.
  9. R. An: Optical waveguide writing inside Foturan glass with femtosecond laser pulses. In: Applied Physics A. 86, Nr. 3, March 2007, S. 343–346.
  10. Fei He: Rapid fabrication of optical volume gratings in Foturan glass by femtosecond laser micromachining. In: Applied Physics A. 97, Nr. 4, December 2009, S. 853–857.
  11. Joohan Kim: Fabrication of microstructures in FOTURAN using excimer and femtosecond lasers. In: SPIE Conference Volume 4977. 25. Januar 2003.