Cymer

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Cymer, Inc.
CYM LOGO Orange Small.gif
Rechtsform Public
Gründung 1986
Sitz San Diego, Kalifornien, USA
Leitung Robert P. Akins (Founder/Chairman/CEO)
Mitarbeiter ca. 1000 (Februar 2012)
Umsatz 594 Mio. USD (2011)[1]
Branche Strahlungsquellen für die Halbleiterindustrie
Website www.cymer.com
Gebäude 6 des Cymer-Firmensitzes in San Diego Headquarters

Die Cymer, Inc. eine der führenden Hersteller von Strahlungsquellen in der Halbleitertechnik, die für die fotolithografische Strukturierung der Wafer benötigt werden. Cymer ist jedoch kein direkter Zulieferer der Halbleiterhersteller sondern liefert seine Systeme an Hersteller von Lithografiesystemen wie ASML, Canon oder Nikon, die sie als Strahlungsquelle in ihre Anlagen integrieren. Das Unternehmen wurde 1986 in San Diego gründet und wird im US-amerikanischen Aktienindex NASDAQ unter dem Kürzel CYMI gelistet.

Produkte[Bearbeiten]

Derzeitiges Hauptgeschäft von Cymer sind sogenannte DUV-Excimerlaser (DUV = engl. deep-ultra violett, dt. tiefes Ultraviolett) mit einer Wellenlänge von 248 nm (KrF-Excimerlaser) und 193 nm (ArF-Excimerlaser). Sie werden unter anderem bei der Fertigung von moderner Halbleiterelektronik benötigt. Cymer fertigt hierbei die die Strahlungsquellen, die von anderen Anlagenherstellern in ihre Systeme integriert werden. Zum Einsatz kommen die Produkte auch bei der Herstellung von Displays unterschiedlicher Technik, beispielsweise LCD oder OLED.

Cymer engagiert sich auch im Bereich zukünftiger Lithografietechniken, sogenannter Next-Generation-Lithografie (NGL). So entwickelt das Unternehmen seit einigen Jahren sogenannte LPP-Strahlungsquellen (LPP = engl. laser-produced plasma, dt. Laser induziertes Plasma), die für die EUV-Lithografie eingesetzt werden sollen. Konkurrenten in diesem Bereich sind Philips Extreme UV und Gigaphoton.[2]

Weblinks[Bearbeiten]

Einzelnachweise[Bearbeiten]

  1. Cymer. CYMI Revenue & Earnings Per Share (EPS) Share. NASDAQ, 5. Oktober 2012, abgerufen am 8. Oktober 2012.
  2.  Christian Wagner, Noreen Harned: EUV lithography: Lithography gets extreme. In: Nat Photon. 4, Nr. 1, 2010, S. 24-26, doi:10.1038/nphoton.2009.251.