ASML

aus Wikipedia, der freien Enzyklopädie
Wechseln zu: Navigation, Suche
Der Titel dieses Artikels ist mehrdeutig. Die Abkürzung ASML steht auch für die Arno-Schmidt-Mailingliste.
ASML
Logo
Rechtsform Naamloze Vennootschap
ISIN NL0010273215
Gründung 1984
Sitz Veldhoven, NiederlandeNiederlande Niederlande
Leitung Peter Wennink (CEO)[1]
Mitarbeiter 12.168 (ohne Leiharbeiter)[2]
Umsatz 6,287 Mrd. US-Dollar[2]
Branche Halbleiterindustrie
Website www.asml.com
Stand: 31. Dezember 2015 Vorlage:Infobox Unternehmen/Wartung/Stand 2015
Hauptsitz von ASML in Veldhoven

Das niederländische Unternehmen ASML ist der weltweit größte Anbieter von Lithographiesystemen für die Halbleiterindustrie. Die überaus komplexen Maschinen spielen eine wichtige Rolle bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen (Mikrochips). 80 % aller Chiphersteller (Foundries und IDMs) weltweit sind Kunden von ASML und der weltweite Marktanteil beträgt 65 %. Die wichtigsten Konkurrenten sind Canon, Nikon und Ultratech. ASML bietet weltweiten Kundendienst an über 50 Servicestellen in 14 Ländern.

Der Hauptsitz von ASML befindet sich in Veldhoven in den Niederlanden. Dort befindet sich auch die Forschungs- und Entwicklungsabteilung sowie die Montage unter Reinraum-Bedingungen.

Geschichte[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Die Firma wurde 1984 als ein Joint-Venture von Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) und Philips gegründet, damals noch unter dem Namen „ASM Lithography“.[3] Mittlerweile ist ASML in ein Aktienunternehmen umgewandelt worden und ist an den Börsen AEX und NASDAQ notiert. Philips hält aber weiterhin einen Minderheitsanteil.[4]

Cymer[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Anfang 2013 wurde die 1986 in San Diego gegründete Cymer, Inc. übernommen.[5] Das Unternehmen ist einer der führenden Hersteller von Strahlungsquellen in der Halbleitertechnik, die für die fotolithografische Strukturierung der Wafer benötigt werden. Cymer ist jedoch kein direkter Zulieferer der Halbleiterhersteller sondern liefert seine Systeme an Hersteller von Lithografiesystemen wie ASML, Canon oder Nikon, die sie als Strahlungsquelle in ihre Anlagen integrieren.

Produkte[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Derzeitiges Hauptgeschäft von Cymer sind sogenannte DUV-Excimerlaser (DUV = engl. deep-ultra violett, dt. tiefes Ultraviolett) mit einer Wellenlänge von 248 nm (KrF-Excimerlaser) und 193 nm (ArF-Excimerlaser). Sie werden unter anderem bei der Fertigung von moderner Halbleiterelektronik benötigt. Cymer fertigt hierbei die Strahlungsquellen, die von anderen Anlagenherstellern in ihre Systeme integriert werden. Zum Einsatz kommen die Produkte auch bei der Herstellung von Displays unterschiedlicher Technik, beispielsweise LCD oder OLED.

Cymer engagiert sich auch im Bereich zukünftiger Lithografietechniken, sogenannter Next-Generation-Lithografie (NGL). So entwickelt das Unternehmen seit einigen Jahren sogenannte LPP-Strahlungsquellen (LPP = engl. laser-produced plasma, dt. Laser induziertes Plasma), die für die EUV-Lithografie eingesetzt werden sollen. Konkurrenten in diesem Bereich sind Philips Extreme UV und Gigaphoton.[6]

Weblinks[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

  •  Commons: ASML – Sammlung von Bildern, Videos und Audiodateien

Einzelnachweise[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

  1. Management
  2. a b Geschäftsbericht 2015 (Form 20-F)
  3. About ASML: Questions and Answers. ASML Holding. Abgerufen am 3. August 2010.
  4. ASML corporate history
  5. ASML Completes Acquisition of Cymer, 30. Mai 2013
  6. Christian Wagner, Noreen Harned: EUV lithography: Lithography gets extreme. In: Nature Photonics. Band 4, Nr. 1, 2010, S. 24–26, doi:10.1038/nphoton.2009.251.